一、鈦靶材的定義及特點

　　鈦靶材是一種主要用于物理氣相沉積（PVD）和磁控濺射（Magnetron Sputtering）技術(shù)的特殊材料。其中，PVD技術(shù)被廣泛應(yīng)用于高級涂層的生產(chǎn)，而磁控濺射則常見于半導(dǎo)體芯片和電子元器件的制造過程中。鈦靶材以純鈦或鈦合金為主要成分，經(jīng)過精細(xì)制造而成。其獨特的優(yōu)點包括極高的硬度和密度，以及卓越的抗腐蝕性，這使得它在各種環(huán)境中都能保持穩(wěn)定性。此外，鈦靶材還擁有良好的熱傳導(dǎo)性和高純度，為濺射薄膜技術(shù)提供了出色的性能。

　　鈦靶材是通過真空熔煉-熔模鑄造工藝制成的高純鈦或鈦合金板坯材料。它最顯著的特性是高純度和優(yōu)良的致密性。優(yōu)質(zhì)的鈦靶材的致密度可以達(dá)到99.5%以上，且雜質(zhì)元素極低，如Fe、Si、O、N、H等元素含量均小于100ppm。這使得鈦靶材在物理性能和化學(xué)性能上都遠(yuǎn)超普通工業(yè)純鈦。

　　此外，鈦靶材還具有卓越的均勻性。在制備過程中，采用了多次熔煉和淬火處理，有效改善了鈦靶材的組織均勻性。靶材表面平滑光潔，內(nèi)部組織致密，晶粒細(xì)小，這確保了沉積膜層的均勻性。鈦靶材還擁有優(yōu)良的熱導(dǎo)電性和較小的熱應(yīng)力，使其不易產(chǎn)生開裂，能夠承受高功率的濺射或電弧蒸發(fā)過程。此外，鈦靶材的機械強度高，能有效提高使用壽命，降低靶材損耗，從而提高了其整體性能和使用價值。

　　鈦方靶、鈦圓靶

　　二、鈦靶材的常見用途

　　磁控濺射:

　　制備光學(xué)鍍膜,如用于眼鏡片的抗反射膜、鏡片的增透膜等。

　　制備鈦基磁記錄,用于計算機硬盤等數(shù)據(jù)存儲。

　　制備鈦基導(dǎo)電膜,用于LCD顯示屏的電極。

　　激光濺射:

　　制備機械部件的表面硬化層,提高抗磨性。

　　制備生物醫(yī)用鈦合金材料的表面涂層,提高生物相容性。

　　電弧蒸發(fā):

　　制備太陽能電池的前電極透明導(dǎo)電膜。

　　制備復(fù)合材料的鈦基增強層。

　　電子束蒸發(fā):

　　制備金紅石太陽能電池的背電極。

　　制備光伏器件用的抗反射膜和鈍化膜。

　　制備汽車減震器的涂層。

　　離子鍍膜:

　　制備齒科和整形外科鈦合金植入物的生物活性涂層,提高骨與植入物的結(jié)合力。

　　制備汽車發(fā)動機活塞的耐磨防腐蝕涂層。

　　制備金屬切削工具的表面硬化層,提高切削性能。

　　化學(xué)鍍膜:

　　制備電子電路板的導(dǎo)電互連層。

　　制備汽車裝飾件的提光鍍膜。

　　制備光學(xué)元件的高反射率鍍膜。

　　原子層沉積法(ALD):

　　制備新型存儲器如銅互連的擴(kuò)散阻隔層。

　　制備圖像傳感器的光學(xué)濾波片。

　　制備太陽能電池的表面層。