鈦靶材通過高純度的鈦材料加工制成。有著光澤的銀白色外觀，其熔點為1660℃，沸點為3287℃，密度為4.5g/cm3。鈦靶材具有高純度、高密度、高強度和耐腐蝕等特點。高性能鈦濺射靶材,是實現電子信息制造業關鍵材料的自主研制和推動鈦工業向高端轉型升級的重要舉措。
鈦靶材特征
鈦靶材形狀：平面靶旋轉靶異型定制
鈦靶材純度：2N7,4N,4N5,5N
鈦靶材尺寸：按圖紙加工或其他者定制
鈦靶材制備工藝
選取鈦原料（4N或者5N），采用真空熔煉的方法將鈦原料熔融，并將熔湯澆鑄，澆鑄后的熔湯冷卻形成鑄錠坯料；
將鑄錠坯料進行第一熱處理，第一熱處理的溫度為450～650℃，保溫時間0.5～2.5h，然后將保溫熱處理后的鑄錠坯料進行熱軋延或者空氣錘鍛打，形成第一鈦坯；
對第一鈦坯進行第二熱處理，第二熱處理的溫度為350～550℃，保溫時間為1～3h，然后將保溫熱處理后的第一鈦坯進行熱軋延或者空氣錘鍛打，形成第二鈦坯；
對第二鈦坯冷卻到室溫后，在室溫的環境下對第二鈦坯進行冷軋延，形成冷軋坯；
將冷軋所形成的冷軋坯做退火熱處理，退火熱處理溫度為300～700℃，時間為1～5h，得到晶粒細小且均勻的鈦靶坯，之后通過機床加工即得鈦靶材。
該制備方法通過多次熱處理，使得鈦坯中的元素產生固態擴散，來減輕化學成分分布的不均勻性，減少靶材坯料的分層現象，縮小晶粒尺寸；同時可消除殘余應力，穩定尺寸，減低硬度和脆性，增加其可塑性，減少變形與裂紋傾向。下圖是鈦濺射靶材典型的顯微金相檢測圖片，平均粒徑<100um。
鈦靶材應用
鈦靶材是一種重要的材料，主要用于制造半導體、光電子和磁性材料等高科技領域的材料。在半導體工業中，鈦靶材可用于制造電子元件的制造，例如光電二極管、光電品體管、光電接收器和發射器等。在光電子領域，鈦靶材可用于制造光電子器件，例如LED和太陽能電池等。在磁性材料領域，鈦靶材可用于制造硬盤和磁卡等。
除了以上應用，鈦靶材還廣泛用于高溫合金、導電材料、化學催化劑和醫療設備等領域，這些領域不僅需要高強度、耐腐蝕的材料，還需要穩定的化學性能和生物相容性。鈦靶材正好滿足這些要求，成為這些領域的重要材料之一。
