一、鈦靶材基本介紹
鈦靶材是由純鈦或其合金通過(guò)特定的工藝制備出的具有特定形狀（如圓形，方形或者其他復(fù)雜的形狀）和精細(xì)表面的靶材。"靶"在這里是一個(gè)術(shù)語(yǔ)，主要用于涉及物理蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程的領(lǐng)域，例如在薄膜沉積過(guò)程中，鈦靶材就作為物質(zhì)來(lái)源，供應(yīng)原材料。
純鈦和鈦合金靶材都是鈦靶材。純鈦是指化學(xué)成分中鈦元素的含量超過(guò)99.6%的材料，其中鈦靶材主要用于某些需要高純度或高電導(dǎo)率的應(yīng)用場(chǎng)景。鈦合金靶材則是指鈦和其他金屬（例如鋁，釩等）或非金屬（例如氮，碳等）按一定比例混合制成的材料，這種材料的優(yōu)點(diǎn)是可以根據(jù)需要調(diào)整不同的性質(zhì)，例如強(qiáng)度，耐磨性，耐腐蝕性等。
鈦靶材具有鈦本身的一些出色特性，比如優(yōu)良的腐蝕抗性，高強(qiáng)度和低密度，以及良好的生物相容性，耐高溫等。另外，由于鈦靶材會(huì)在薄膜沉積過(guò)程中被"打擊"以產(chǎn)生鈦原子，因此它的表面質(zhì)量對(duì)沉積出來(lái)的鈦薄膜的質(zhì)量有著極大的影響。因此，鈦靶材通常都需要經(jīng)過(guò)精磨，以達(dá)到足夠平整且無(wú)顯微裂紋和雜質(zhì)的表面。這樣才能在使用過(guò)程中保證高的濺射率和薄膜的高純度。
鈦圓靶、鈦方靶、鈦陰極、鈦條
二、鈦靶材的制備工藝
原材料挑選：
由于鈦靶材主要用于鍍膜工藝，選擇99.99%純度的鈦塊作為原材料是常見(jiàn)的。一個(gè)好的原料應(yīng)該沒(méi)有明顯的外表缺陷如氧化、不純物、裂痕等，確保原材料的質(zhì)地均勻且純度高。
熔煉：
在熔煉階段，使用真空電弧熔煉爐將鈦原料加熱至超過(guò)1668攝氏度（鈦的熔點(diǎn)），使原材料完全熔化。為了防止氣體雜質(zhì)混入，整個(gè)過(guò)程需要在高真空環(huán)境中進(jìn)行。一些特定應(yīng)用可能會(huì)要求在護(hù)氣（如氬氣）的環(huán)境中進(jìn)行，來(lái)保護(hù)靶材不被氧化。
鍛造：
在這個(gè)階段，液態(tài)鈦被倒入模具中冷卻固化，然后使用液壓機(jī)對(duì)其進(jìn)行力量均勻的壓制。在鍛造過(guò)程中，因?yàn)楸仨毐３忠欢ǖ臏囟纫员ＷC材料的延展性，所以常常會(huì)有加熱和保溫的步驟。
粗加工：
在此階段，靶材會(huì)首次被機(jī)械加工到適用的形狀和大小。這可能包括數(shù)控車(chē)床或者數(shù)控銑床的使用，以精確切割和形狀化靶材。
熱處理：
多數(shù)情況下，靶材需要進(jìn)行熱處理，如固溶處理或退火，在800-1000°C的范圍內(nèi)處理數(shù)小時(shí)。這些處理的目的是改善材料微觀結(jié)構(gòu)，增強(qiáng)其強(qiáng)度和韌性。
表面精加工：
經(jīng)過(guò)以上處理后，靶材需進(jìn)行表面精加工，比如研磨和拋光。首先，大概用研磨紙進(jìn)行大面積的研磨，然后逐漸降低研磨紙的粗度進(jìn)行細(xì)研磨。
質(zhì)量檢查：
在這個(gè)階段，鈦靶材會(huì)接受一系列的質(zhì)量檢驗(yàn)，包括UT測(cè)量（超聲探傷），XRD檢驗(yàn)（X射線衍射）確認(rèn)結(jié)構(gòu)，ICP-AES或LECO分析等測(cè)定化學(xué)純度。
裝箱發(fā)貨：最后，鈦靶材需要在無(wú)塵環(huán)境下封裝，通常使用真空包裝，以保持產(chǎn)品的純度。然后將其放入特殊設(shè)計(jì)的包裝箱中以保護(hù)產(chǎn)品在運(yùn)輸過(guò)程中不受損壞。
鈦平面旋轉(zhuǎn)靶材
三、鈦靶材的應(yīng)用領(lǐng)域
借助其極佳的性能，鈦靶材被廣泛應(yīng)用在液晶顯示材料、太陽(yáng)能電池、磁性材料等領(lǐng)域，作為基礎(chǔ)材料，發(fā)揮著關(guān)鍵的作用。例如，在液晶顯示材料的制備中，鈦靶材可以通過(guò)磁控濺射法制備出純凈、均勻的鈦薄膜，從而大大提高產(chǎn)品的性能。鈦靶材在各種不同的工業(yè)和科研領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用：
半導(dǎo)體行業(yè)：
鈦與其化合物（如氮化鈦和氧化鈦）常常被用于制造半導(dǎo)體設(shè)備中的界面層、助焊膜、阻擋層等。它可以應(yīng)用于沉積硅片上的金屬膜,用于把其他電子元素連接起來(lái)以形成電路。
鍍膜行業(yè)：
鈦靶材用于物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）以生產(chǎn)高效和耐用的鍍膜。這些鍍膜應(yīng)用在多個(gè)領(lǐng)域，包括建筑上的太陽(yáng)能控制玻璃，汽車(chē)零部件的耐磨硬膜，化石能源設(shè)備的耐腐蝕膜，陽(yáng)極氧化膜應(yīng)用在飾品或數(shù)碼產(chǎn)品等。
光學(xué)行業(yè)：
在光學(xué)行業(yè)，鈦靶材被用于制造具有抗反射，消耗磨損和氧化防護(hù)等特性的薄膜。一些具體應(yīng)用范圍包括眼鏡鍍膜，照相機(jī)鏡頭元件，望遠(yuǎn)鏡，顯微鏡和其他精密儀器。
存儲(chǔ)設(shè)備：
在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備，如硬盤(pán)中，硬盤(pán)的磁行層通常采用一層薄的鈦膜，具有良好的熱穩(wěn)定性和耐磨性。
醫(yī)療器械行業(yè)：
鈦和鈦合金被廣泛使用在醫(yī)療器械制造中，比如人工髖關(guān)節(jié)和牙科植入體等。在牙科領(lǐng)域，可以使用PVD技術(shù)在牙科植入物上沉積鈦膜，以增強(qiáng)與骨的結(jié)合力，改善生物相容性。